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Caractérisation à l échelle nanométrique d interfaces métal/sioxny
Cód:
491_9786131502002
Les systèmes constitués dinterfaces métal/silicium ou métal/composés de silicium sont très utilisés dans de nombreux secteurs technologiques. Les propriétés de ces systèmes dépendent fortement des interactions entre les matériaux dans la zone de linterface. Nous présentons les résultats de lanalyse par EXES et SIMS des interfaces Mo/Si, Mo/SiO2, Mo/Si3N4, NiTi/Si, NiTi/SiO2 et NiTi/Si3N4. Les composés interfaciaux déterminés par EXES sont localisés au travers de linterface par SIMS. Les liens entre la réactivité de ces interfaces et leur adhérence sont montrés pour certains de ces systèmes. La nécessité de lemploi de techniques non destructives pour lanalyse physicochimique des interfaces est montrée au travers dune comparaison de lanalyse EXES avec les analyses par XPS assistée par décapage ionique et par METHR-EELS. Nous déterminons les conditions de préparation permettant de minimiser la réactivité interfaciale de nos systèmes.
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